MEMS市場の期待アプリは？
----------------------- PVJapan 2008 マイクロマシン/MEMS展 JPCA Show 2008 人とくるまのテクノロジー展 組込みシステム開発技術展 ファインテック・ジャパン Display2008 PV EXPO 2008/FC EXPO 2008 nano tech 2008 インターネプコン シャープと東芝が提携 日立，キヤノン，松下，提携 SEMICON Japan 2007
▲レーザ超音波検査装置（日本レーザー） ----------------------- Solar-Cellユーティリティ 半導体検査装置 非接触表面・層断面形状計測システム LED用エージングテスタ クリーンバタフライバルブ 検査機能内蔵マウンタ X線透視検査装置 薄型アライメントステージ 自動マクロ検査装置 小型モジュラーマウンタ
CMOS 液浸リソグラフィ カーボンナノチューブ システムLSI ナノテクノロジ 鉛フリーはんだ 半導体 マイクロマシン 有機EL
Press Journal Inc. 2003-2008
半導体製造工程の約1/5〜1/4を占めると言われる洗浄工程では，プロセスの微細化に伴って洗浄対象の多様化と，より厳しいクリーン度の要求がある。FPDの洗浄工程においては，ガラス基板の大型化によって純水・薬液使用量が膨大化するといった問題が発生している。また，双方の製造工程において発生する廃液・ガスなどの様々な環境負荷物質の存在も，無視できないものとなっている。本稿では，半導体・FPD製造の歩留り向上の要である洗浄技術の動向について述べる。
小林行雄，岡田啓/編集部
