SEMICON Japan 2007 エキサイティングブース
前工程（1）
1. Applied Materials
▲会場風景
Applied Materialsのブースでは，各種注力製品の展示が行われていた。300mmウェーハ対応のエッチング装置「Applied Centura Carina Etch」は，高温high-k向けの装置。プロセスウィンドウが広く，プロファイル，リセス，残留物の制御を同時に最適化できるため，トランジスタの45nmプロセス以降への微細化にも対応する。また，同じくチャンバの実機展示を行っていた絶縁膜CVD装置「Applied Producer Platforom」は，多種多様な絶縁膜プロセスに対応，全世界で1000台以上の設置実績を有する。なお，同装置は，ツインチャンバアーキテクチャを備え，最大6枚のウェーハを同時に処理することで，高スループットを実現する。
2. アルバック
アルバックは，各種装置のパネル展示を行っていた他，真空搬送ロボット「KEYTRAN9」やLED/LD用量産エッチング装置「APIOS NE-950」などの実機展示を行っていた。KEYTRAN9は同社の真空搬送ロボット「KEYTRAN」シリーズの最新機種で，自動位置合わせ機能と高速性を特徴としている。また，スリップ動作を改善することにより，従来機と比べウェーハ1枚当たり2秒程動作スピードを改善している。さらに，装置データを2か月間連続して保存することが可能な機能を搭載している。同社では，こうした予防保全的な機能について，FPDや太陽電池向け装置を含めて統一していくとしている。
一方，APIOS NE-950は100mmウェーハに対応したエッチング装置で，300mmの基板トレイを採用することにより，一度に100mmウェーハで5枚の処理が可能な枚葉バッチ処理方式を採用している。また，独自のスター電極の搭載の他，防着板やドライポンプなどへのデポ対策が施されており，高生産性と高精度を両立している。同装置はオプションとしてオートローダの搭載が予定されており，早ければ08年の早い時期から提供が可能になるという。
3. ASML
▲会場風景
ASMLは，同社のブース取材の中で，最新の液浸露光装置「XT:1900i」ついてコメントし，同装置が07年に15台から20台出荷される予定であり，そのうち複数台が日本の半導体メーカー向けに出荷されると発表した。また同社は，これまでに同社の液浸装置を使用して露光されたウェーハの枚数が，すでに600万枚を超え，07年末までに世界各地の20社のカスタマに向け，累計70台以上の液浸装置を出荷するとした。
4. SEZ
SEZは，自社の300mmウェーハ対応枚葉式洗浄装置「Da Vinci Prime」の紹介を行っていた。同装置は，これまでBEOLでの使用がメインであったDa Vinciの機能を拡張し，FEOLでも対応できるようにしたもので，ちょうど同社が06年に発表したFEOL対応枚葉式洗浄装置「Esanti」とDa Vinciの中間に位置する装置となっている。そのため，Esantiで培ったノウハウを継承しており，両面洗浄やActive-Jet（A-Jet）による洗浄，液体IPAを用いることでウォータマークを除去する「ASD3」などの機能が盛り込まれている。スループットは350枚/時（80℃）で，ウェーハのエッジのみをクリーニングする「BCO（Bevel Clean Only）」などにもオプションで対応している。また，チャンバの回転数を落として洗浄を行うといったユニークな機能も搭載している。
5. エム・エフエスアイ
08年1月より社名を「アプリシア・テクノロジー」に変更したエム・エフエスアイでは，極低温エアロゾル洗浄システム「ANTARES CX」や枚葉式エッチング洗浄システム「CENOTE」などの紹介を行っていた。ANTARES CXは，エアロゾルによりウェーハ表面の欠陥異物を選択的に除去する物理洗浄システム。不活性ガスによる処理は下地露出膜をエッチングすることなく異物を除去できるため，歩留りを低下させる様々な工程に適用が可能である。また，水を用いないプロセスのため，ダメージレス，ウォータマークレス，チャージレス洗浄が可能となっている。
一方，CENOTEは，枚葉スピン両面洗浄システムで，ウェーハを回転中心よりズラして偏芯回転するため，ウェーハを固定するチャッキング機能を搭載している。これにより通常の軸対象チャックでは得られない気流挙動からウェーハ裏面への気流回り込みを軽減することが可能となっている。
6. Entegris
▲Clariliteソリューション（Entegris）
Entegrisは，循環濾過用フィルタ「Torrento ATE 20nm」やレチクルのヘイズによるパターン不良やレチクルの洗浄サイクルを改善するソリューション「Clarilite」など多数のフィルタ関連製品の紹介を行っていた。
Torrento ATEは45nmプロセスに対応する高い除粒子性能と高流量特性を両立する，新開発のメンブレンを採用。パーティクルによるウェーハ欠陥を最小限に抑え，かつ高スループットを維持するために最適な循環洗浄プロフィールを提供することが可能となっている。また，Clariliteは，レチクルポッド「RSP3」，パージステーション「RSPX」，エアロネクス「XCDAシステム」の3点から構成されるソリューション。システムの中心となるのがRSP3で，ポッドはストッカ内およびスキャナで待機中にパージされる。また，精製シートを内蔵しているため，工程内を搬送中のレチクルも清浄な環境に保つことが可能である。
7. キヤノンマーケティングジャパン
キヤノンマーケティングジャパンは，キヤノンのArF液浸露光装置「FPA-7000AS7」の他，Mattson Technologyの高速アニーリング装置「Millios」，Zygoの三次元光学測定装置「Z3D-7000シリーズ」などの紹介を行った。FPA-7000AS7はキヤノン初となるArF液浸露光装置。NAは1.35でカタディオ光学系を採用している。また，ユーザーフレンドリな高効率照明および線光照明「Polarizd Illuminator」を採用している。さらに独自の液膜法「Liquid Film Flow」を採用している他，本体は分離構造を採用することで，振動の絶縁を実現している。
MattsonのRTPであるMillionは，フラッシュランプを採用することで，ミリ秒オーダーでのアニールを実現している。また，同一装置内でスパイクアニールとのプロセスインテグレーションを実現している。スループットは標準プロセスで55枚/時で，ソース/ドレインのエクステンションの活性化やゲート空乏層の低減など多様なプロセスアプリケーションに対応している。
