
リセッションを脱し,市場回復はいつ?

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エコプロダクツ2008
SEMICON Japan 2008
FPD International 2008
LEDジャパン2008
CEATEC JAPAN 2008
VACUUM2008 - 真空展
PVJapan 2008
マイクロマシン/MEMS展
JPCA Show 2008
人とくるまのテクノロジー展
組込みシステム開発技術展
ファインテック・ジャパン
Display2008
PV EXPO 2008/FC EXPO 2008
nano tech 2008
インターネプコン
シャープと東芝が提携
日立,キヤノン,松下,提携











▲大気圧プラズマ表面改質装置(ウェル)
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蛍光X線金属成分分析装置
高負荷ボールねじ
真空排気用ソフバックフィルタ
フーリエ変換赤外分光光度計
蝶番
抵抗測定/PN判定器
三次元表面形状測装置
ナノ加工顕微鏡システム
ダブルダイアフラムポンプ

CMOS
液浸リソグラフィ
カーボンナノチューブ
システムLSI
ナノテクノロジ
鉛フリーはんだ
半導体
マイクロマシン
有機EL





Press Journal Inc.
2003-2009
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小型全固体ブルーレーザ Sapphire
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特徴
- 75mWと500mWの2モデル
- 波長:488nm
- 連続発振
- 空間モード:TEM00(M2<1.1)
- ビーム拡がり角:<1.2mrad
- 光ノイズ:20Hz〜2MHz
- 半導体非破壊検査の他,バイオ・メディカル分野にも応用可能
問い合わせ先
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マイクロフォトセンサ PM-64シリーズ
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特徴
- アンプ内蔵のコの字型マイクロフォトセンサ
- コネクタ部をセンサに内蔵し,省スペース化を実現
- はんだ付け,絶縁処理,中継BOXなどが不要
- 取り付け条件に応じた6機種をラインナップ
問い合わせ先
- センサ宣伝企画課
- TEL 0568-33-7351 FAX 0568-33-8174
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FOUP/FOSBクリーニングシステム MS 277
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特徴
- 300mmウェーハFOUP/FOSBとドアの全自動クリーニングシステム
- 高いスループット(9セットのFOUPのクリーニングがわずか45分で完了)
- モジュールタイプクリーニングチャンバにより,チャンバ数は選択可能
- ダイナミックスプレーリンスにより,高速クリーニングを実現
- リンス温度は25〜60度
- 製造会社:POLY-FLOW ENGINEERING
問い合わせ先
- 電子機器第一事業部 営業四部
- TEL 03-3225-8079
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液体用微小流量コントローラ FC-5000
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特徴
- オールフッ素樹脂構造
- コントローラ本体と超音波流量計専用変換器,二つの機器の機能を変換器1台にまとめ、省スペースを実現
- 耐ノイズ性,流量制御の安定性を向上し,高機能化を達成
- 半導体製造装置・プロセスをはじめとする,純水・各種薬液の安定流量管理,定量供給,濃度管理など,高度なプロセス制御に最適
問い合わせ先
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PS高さ測定装置 GH7000
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特徴
- カラーフィルタPhoto Spacerを高速・高精度で測定可能
- 高速検査:60sec/1900mm×2200mm(36ポイント/Glass:4heads)
- Photo Spacerの高さと位置を同時に測定
- カラーフィルタの色の影響を受けないコンフォーカル光学系を採用
問い合わせ先
- FPD・HD装置営業本部
- TEL 03-3504-3228 FAX 03-3504-5946
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原子層蒸着プロセス用途向けバルブ ALDダイヤフラム・バルブ
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特徴
- 原子層蒸着プロセスでの過酷な要求に対し,優れた高速作動性とサイクル・ライフを提供する超高性能バルブ
- 高速作動性/バルブのオープン,またはクローズに要する時間が5ミリ秒未満
- 耐久性/2500万サイクルを超えるサイクル・ライフを実現(製品評価時)
- 高温対応/最高使用温度は200℃まで可能
問い合わせ先
- マーケティング・コミュニケーションズ
- TEL 0798-41-2043 FAX 0798-41-7496
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次世代マクロ観察装置 GEOSCAN
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特徴
- BM開発の二つのマクロ光学検出技術を製品化
- 「鏡面反射光検出技術」は,回折では観察できない100μm以下のパターンから,数十μm以上のパターンの微小な変化まで観察可能
- 「複合反射光検出技術」は,膜内からの反射光の検出で,厚みムラの観察が可能
- 半導体・FPDなどの観察に幅広く対応
問い合わせ先
- 応用システム部
- TEL 03-5285-0862 FAX 03-5285-0860
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微小キズ・欠陥・埃検査用画像強調カメラ APイメージャカメラ
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特徴
- Siウェーハ,LCD,光学ガラス,金属塗装面などの表面の肉眼では見えない微小な形状欠陥や埃の有無の検査に最適
- 半導体,LCD製造工程の発塵源の特定などを目的とした空気中の微粒子可視化などにも応用可能
- 紫外域から可視域において高感度,高SN比,ワイドダイナミックレンジ
問い合わせ先
- 電子管営業部
- TEL 0539-62-5245 FAX 0539-62-2205
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インクジェット装置 Litrex70
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特徴
- 金属ナノ粒子,高分子有機EL,有機半導体など,様々な分野の研究・試作に適したインクジェット装置 ● 200mm角の基板まで使用可能
- TIFFフォーマットデータの印刷レイアウト取り込み印刷可能
- ドロップ分析機能を用いて,様々なインクの突出パラメータの最適化が容易
問い合わせ先
- FPD事業本部
- TEL 03-5218-5704 FAX 03-5218-5710
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IV特性評価システム用パルス発生/測定オプション 4200-PIV
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特徴
- トラップフリーなパルスIV特性,DC特性,チャージポンピングなどをワンボックスに統合。high-k材料などの市場投入期間を短縮
- 定評のある高精度/サブフェムトアンペアDC特性評価,リアルタイムプロット,解析エンジンを提供
- Windowsベースのインターフェースが簡単かつ素早い測定を支援
- 統合ソフトウェア「KTEI」の使用で,より正確で再現性の高い測定が可能
問い合わせ先
- マーケティング
- TEL 03-5733-7555 FAX 03-5733-7556
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薄膜シート抵抗測定システム WS-3000
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特徴
- 高精度テスタ・高性能4探針プローブヘッド・安定した搬送機構により,高信頼度の測定を実現
- 4種類のプローブヘッドが装着できるロータリ機構のため,従来のような測定サンプル毎のプローブ交換作業が不要
- デュアルモードにより,エッジ1mmまで高精度に測定
- 高速測定による優れたコストメリット
- 薄膜3nmの測定実績
- シンプルなハードウェア構成,省スペースのフットプリント
問い合わせ先
- 営業部
- TEL 03-3636-0286 FAX 03-3636-0976
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