リセッションを脱し，市場回復はいつ？
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FPD International 2008
LEDジャパン2008
CEATEC JAPAN 2008
VACUUM2008 - 真空展
PVJapan 2008
マイクロマシン/MEMS展
JPCA Show 2008
人とくるまのテクノロジー展
組込みシステム開発技術展
ファインテック・ジャパン
Display2008
PV EXPO 2008/FC EXPO 2008
nano tech 2008
インターネプコン
シャープと東芝が提携
日立，キヤノン，松下，提携
▲大気圧プラズマ表面改質装置（ウェル）
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蛍光X線金属成分分析装置
高負荷ボールねじ
真空排気用ソフバックフィルタ
フーリエ変換赤外分光光度計
蝶番
抵抗測定/PN判定器
三次元表面形状測装置
ナノ加工顕微鏡システム
ダブルダイアフラムポンプ
CMOS
液浸リソグラフィ
カーボンナノチューブ
システムLSI
ナノテクノロジ
鉛フリーはんだ
半導体
マイクロマシン
有機EL
Press Journal Inc.
2003-2008
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MEMS用統合解析ソフトIntelliSuite
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特徴
- 半導体素子の製造工程を利用したマイクロマシンの製造工程の検討から，デバイスの性能評価まで一貫して検討することを目的とした，統合型の設計解析ソフト
- ファブリケーションシミュレーションの装備
- プロセスによる薄膜物性の違いを考慮
- 異方性Wet，Dryエッチングシミュレータを装備
問い合わせ先
- マーケティング部
- TEL 03-5464-2971
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マルチビームレーザドライ加工装置 M-15TM
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特徴
- 金属薄膜・高分子フィルム・ITO等各種薄膜ドライパターニング用エキシマレーザ加工装置
- 第4-7世代ガラス基板対応
- 安定した高出力UVパルスレーザをマルチビーム化することで，従来のシングルビーム加工装置と比べて加工時間を大幅に短縮
- UV光によるマスク投影光学系は，平面・深さ方向に高い分解能を有し，薄膜などの高精細なパターン成形に最適
問い合わせ先
- システムカンパニー レーザ微細加工推進室
- TEL 03-3648-1676 FAX 03-3648-8117
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ICP発光分光分析装置 SPS5500シリーズ
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特徴
- ICPで生成される多元素の発光をエシェル分光器にて分光し，7万画素CCDにて受光・分析を行う
- 167〜785nmのすべての波長範囲における読み出し時間0.8秒
- 最適積分時間の自動設定機能により，高濃度元素の大信号と，低濃度元素の微小信号の積分を同時に実行可能
問い合わせ先
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狭小空間用湿度変換器 TA502RGS
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特徴
- 狭小空間の相対温度を検知し，アナログ電圧または電流として出力。0〜1V，0〜5V，1〜5V，4〜20mAを選択可能
- 内径6mmのパイプに挿入可能。密閉空間での計測にも対応
- 80℃，90％RHなどの高温高湿環境で使用可能
問い合わせ先
- TEL 0424-90-7377 FAX 0424-90-7378
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電流トランス CTE20S
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特徴
- ユニポール・バイポールのシングルパルス，繰り返しパルス，連続電流波形を正確な電圧波形で出力。各種計測機器に接続してそのまま計測，測定可能
- 使用温度範囲：−20〜＋120℃
- 広帯域にわたる出力感度±0.5％の高精度
問い合わせ先
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超微小硬度計 DUH-211/211S
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特徴
- 蒸着膜や薄膜などの表面物性評価，硬度および弾性率を測定
- 圧子先端形状，装置剛性の補正を行い，高精度の弾性率評価を実現
- 0.1nmの高分解能で深さ計測が可能
- 負荷除荷試験，繰り返し試験など7種類の試験が可能
- 試験力：0.1〜1961mN
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多列スチールベルトコンベヤ
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特徴
- ベルトを多列に配置し，幅広ワークの搬送ができるコンベヤ。平坦でムラのない搬送が可能。クリーンルーム，FPD関連のガラス基板などの搬送に最適
- ベルトからの発塵が極少なため，ハイクリーンルームにも設置可能
- 200kg以上の重量ワーク搬送が可能
- プーリ径が200mmと小さく，パスラインが低くでき，高さスペースを取らない
- 平面平滑性が良く，振動が極めて少ないので搬送ワークへの影響がない
- 導電性が良いため帯電がほとんどなく安心して搬送できる
- 2列のスチールベルト間に速度差がないので，ワークの直進性が良い
仕様
- コンベヤ仕様：外形：680×500×1500mm（機幅×機高×機長）
- プーリ径：200mm
- モータ：AC 100V 90W
- スチールベルト材質：高張力ステンレス鋼
問い合わせ先
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浄用機能水製造装置 酸還王シリーズ
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特徴
- 超純水に最小限のエネルギーを加えた新しい洗浄用水
- LCDや半導体の洗浄で薬品，超純水の使用量を削減可能
- 水素水はパーティクルの除去と際付着防止ができる
- オゾン水は有機物の分解と金属不純物の除去ができる
- 洗浄機直近に設置できる超小型の酸還王Hからセントラル供給タイプまでをシリーズ化
問い合わせ先
- 機能商品事業部 開発営業部
- TEL 03-5635-5192
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超低露点圧縮空気精製装置 CDASS-HP
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特徴
- 窒素に比べて低コストかつ安全で取扱いやすい極限まで乾燥させた清浄な超低露点清浄空気を供給
- 露点温度−100℃，水蒸気量がクリーンルーム空気の100万分の1程度，凝縮性有機物など99.9％以上除去
- 可搬型で軽微な配管工事と電源接続のみで使用可能
問い合わせ先
- 産業空調事業本部商品部
- TEL 03-5323-8282 FAX 03-5323-8250
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ペリクル/フォトマスク異物検査装置 PEGSIS P100
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特徴
- 半導体用マスクの裏面・ペリクル面の異物を高速，高感度で検査
- マスクの出荷前検査，ウェーハファブでの受入検査や使用前の品質確認に最適
- 現在開発中の異物除去機能（オプション）により，ペリクルの貼り直しやマスク再洗浄無しにペリクル面・裏面に付着した異物の除去が可能
問い合わせ先
- 営業部
- TEL 045-544-4192 FAX 045-543-7764
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蛍光X線膜厚計 SFT9500
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特徴
- キャピラリの採用による微少ビームの高輝度化で，薄膜を精度良く測定
- マッピング測定により，めっき厚み分布や特定元素の含有分布を容易かつ迅速に観察できる
- 高輝度微少ビームと高計数率検出器を組み合わせた異物検査も可能
- データ編集機能を搭載
問い合わせ先
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