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KLA-Tencor，DPL対応の数値計算リソグラフィ・ツールを発表（08/7/11）
KLA-Tencorは，ダブルパターニング・リソグラフィ（DPL）にも対応する数値計算リソグラフィ・ツールの最新版「PROLITH 11」を発表した。DPLは，パターンを二つの組み合わせに分割することによって，微細なパターンを形成する方法。DPLレイヤに関してはマスクが2枚組になるとともに，新しいフォトレジスト材料が必要になり，プロセスの複雑さとコストが増大する。ファブでは，2回露光，ダブル・マスクおよび2重レジスト方式を採用することによって，無理のない範囲のプロセス条件の基でウェーハへの転写がどのように行われるかを解析し，マスク設計，材料およびプロセスのパラメータを最初から適切に設定する必要がある。ユーザーはPROLITH 11を使用することで，この複雑なシステムを高い精度でモデリングできる。また，このモデルを使用して，転写されたパターンに対するマスク設計，フォトレジスト特性およびスキャナやプロセス・パラメータの変化の影響を検討することによって，システムを最適化することが可能となる。
