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TEL，ニコンの最新ArF液浸スキャナを導入（08/7/17）
東京エレクトロン（TEL）は，最先端デバイス製造技術のさらなる微細化要求に応えるため，液浸露光機（ニコン製ArF液浸スキャナ：「NSR-S610C」）を山梨・穂坂事業所内クリーンルームに導入したことを発表した。今回の最新鋭露光機の導入により，微細化に伴う課題・懸念点の早期把握を行い，同社要素技術による解決・対策・新製品リリースの早期実施，また，近年次世代デバイスへ量産適用が検討されているダブルパターニングなど，モジュール技術の確立を目指すという。次世代デバイス実現に向けて検討されているダブルパターニング技術では，従来，露光装置/レジスト塗布現像装置で実現してきた微細化技術に大きな変革が必要となる。同社が有する豊富なプロセス装置群（レジスト塗布現像装置，エッチング装置，成膜装置，洗浄装置，寸法測定装置）を融合/最適化することにより，22nmノードに向けた微細化，高CD制御性，LWR（Line Width Roughness）低減など，技術課題の早期解決に寄与する。